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更新時間：2025.05.31
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利用微弧氧化技術(shù)在ZL205A鋁合金表面制備陶瓷層;用掃描電鏡對膜層形貌及結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察,分析了膜層典型形貌的形成過程;用X射線衍射儀對膜層相組成進(jìn)行分析;對不同厚度微弧氧化膜層的試樣進(jìn)行鹽霧試驗。結(jié)果表明:所制得的膜層由α-Al2O3、γ-Al2O3及δ-Al2O3組成;膜層厚度小于30μm時,耐蝕性能隨著膜層厚度的增大提高明顯,當(dāng)膜厚為30～50μm時,耐蝕性能隨著膜厚的增加提高幅度減小,膜厚大于50μm時,其耐蝕性能變化不明顯。
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以往就純鈦材表面微弧氧化陶瓷層表面積對提供羥基磷灰石生長條件的研究不多,為此,在Na2HPO4電解液中,采用微弧氧化法在純鈦材表面制得多孔結(jié)構(gòu)的二氧化鈦陶瓷層。研究了正向電壓、頻率對微弧氧化陶瓷層組織結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明,隨正向電壓升高,膜厚增加,孔徑增大,表面變得粗糙;隨頻率的增加,膜層表面變得光滑,孔徑減小,膜厚減小;在正向電壓450 V、頻率600 Hz時得到均勻的多孔結(jié)構(gòu);陶瓷層主要由銳鈦礦型TiO2和少量非晶組成,有利于羥基磷灰石生長。
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