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更新時間：2025.06.15

頭條 PVD鍍膜設備有哪些？

PVD即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物...

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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書：《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容：薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積（CVD）、離子注入與離子輔助沉積技術、ITO導電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監控、薄膜與表面分析檢測技術。書中還系統地介紹了反應濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術。

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