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更新時間:2025.05.17
《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行

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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術、

《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行

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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術、ITO導電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監控、薄膜與表面分析檢測技術。書中還系統地介紹了反應濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術。

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