建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃
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選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動(dòng)性。所謂真空鍍膜就是要求結(jié)構(gòu)均勻并缺陷少,且容易流動(dòng)的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40%以下,共形成的
大面積熱反射真空鍍膜玻璃
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據(jù)《電子材料》1993年第4輯報(bào)道,上海同濟(jì)大學(xué)和常州真空鍍膜廠共同研制成功大面積熱反射鍍膜玻璃,并已通過鑒定投入大批量生產(chǎn)。該產(chǎn)品是80年代國外剛發(fā)展起來的一種新型玻璃材料。使用這種玻璃時(shí)室外
熱反射玻璃鍍膜工藝的研究
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本文采用直流磁控濺射方法,對(duì)氧化不銹鋼膜、金屬ti膜、tin膜和tioxny膜在不同工藝和不同組合條件下形成的兩層膜系熱反射鍍膜玻璃的光學(xué)性能及有關(guān)組份進(jìn)行了測(cè)試分析,闡明了該種方法及該種系列工藝條件下鍍制熱反射玻璃鍍膜的性質(zhì),提出了此工藝條件鍍制兩層膜系熱反射玻璃鍍膜的最佳組合工藝。對(duì)有關(guān)工業(yè)生產(chǎn)中實(shí)施工藝技術(shù)所存在的問題進(jìn)行了探討
熱反射玻璃
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筑神-建筑下載:http://www.***.*** 熱反射玻璃 本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中,除耐輻照性能外,其它光學(xué)性能和理化性能等效采用了日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)jis r3221-90《熱反射玻璃》,且本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的外觀質(zhì)量指標(biāo)嚴(yán)于jisr3221-90中的規(guī)定。同時(shí), 根據(jù)我國的實(shí)際情況,增加了色差指標(biāo)。 本標(biāo)準(zhǔn)由國家建筑材料工業(yè)局秦皇島玻璃研究設(shè)計(jì)院提出并歸口。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:國家建筑材料工業(yè)局秦皇島玻璃設(shè)計(jì)院、國家建筑材料工業(yè)局標(biāo)準(zhǔn)化研究所。 本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位:廣東宏江玻璃公司。 本標(biāo)準(zhǔn)起草人:張茁青劉起英尹靖宇張志勇 1范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了熱反射射玻璃的分類、要求、檢驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。適 用于建筑及其他方面使用的熱反射玻璃。 2引用標(biāo)準(zhǔn) 下列標(biāo)準(zhǔn)所包括的條文,通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。
熱反射玻璃
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熱反射玻璃 國家建筑材料工業(yè)局發(fā)布1998-07-22發(fā)布1998-12-01實(shí)施 前言 本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中,除耐輻照性能外,其它光學(xué)性能和 理化性能等效采用了日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)jisr3221-90《熱反射玻 璃》,且本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的外觀質(zhì)量指標(biāo)嚴(yán)于jisr3221-90中的 規(guī)定。同時(shí),根據(jù)我國的實(shí)際情況,增加了色差指標(biāo)。 本標(biāo)準(zhǔn)由國家建筑材料工業(yè)局秦皇島玻璃研究設(shè)計(jì)院提出 并歸口。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:國家建筑材料工業(yè)局秦皇島玻璃設(shè)計(jì)院、 國家建筑材料工業(yè)局標(biāo)準(zhǔn)化研究所。 本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位:廣東宏江玻璃公司。 本標(biāo)準(zhǔn)起草人:張茁青劉起英尹靖宇張志勇 1范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了熱反射射玻璃的分類、要求、檢驗(yàn)方法、檢 驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。適用于建筑及其他方面使用 的熱反射玻璃。 2引用標(biāo)準(zhǔn) 下列標(biāo)準(zhǔn)所包括的條文,通過在本標(biāo)準(zhǔn)中
陰極濺射鍍膜的透明熱反射玻璃板
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比利時(shí)最近發(fā)明了一種表面鍍有氧化物和金屬薄膜的透明熱反射玻璃板。該板在可見光譜中具有較高的透光能力,并對(duì)熱輻射有較強(qiáng)的反射作用。
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一)
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近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)
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近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。
熱反射玻璃(續(xù))
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五、涂層工藝1、熱噴涂法a、離線熱噴涂法:七十年代后期,西德和日本專利先后公布了熱噴涂工藝.西德先將玻璃加熱到大于400℃,然后噴涂以al_2o_3為主,含cr、co、ni或ti等氧化物的乙酰丙酮酸鹽溶液,以制備熱反射玻璃.日本先將玻璃加熱到550℃,然后噴涂含cr、fe、pd的乙酰丙酮酸鹽和ch_2o_3溶液,以制備熱反射玻璃.1979年,英國在制備烤箱門時(shí),也采用
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃
真空蒸鍍熱反射玻璃電清洗工藝研究
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分析了蒸鍍熱反射膜時(shí)電清洗玻璃的必要性,提出了在真空室體中設(shè)置柵極并加以負(fù)高壓,采用氬氣產(chǎn)生等離子場(chǎng)并用其轟擊清洗玻璃表面的方法。實(shí)驗(yàn)確定了蒸鍍熱反射膜(ni/cr)時(shí)的最佳轟擊清洗時(shí)間。
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。
《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行
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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。
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職位:電氣項(xiàng)目管理工程師
擅長專業(yè):土建 安裝 裝飾 市政 園林