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更新日期: 2025-05-23

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(一)

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(一) 4.3

近年來,各種工業生產規模的玻璃基片大平面磁控濺射生產線發展迅速,令人關注。本文針對這一領域,就主要膜系開發、設備結構、工藝、存在的問題及最新發展做了簡單的歸納和介紹。

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二)

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二)

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近年來,各種工業生產規模的玻璃基片大平面磁控濺射生產線發展迅速,令人關注。本文針對這一領域,就主要膜系開發、設備結構、工藝、存在的問題及最新發展做了簡單的歸納和介紹。

大面積熱反射真空鍍膜玻璃 大面積熱反射真空鍍膜玻璃 大面積熱反射真空鍍膜玻璃

大面積熱反射真空鍍膜玻璃

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據《電子材料》1993年第4輯報道,上海同濟大學和常州真空鍍膜廠共同研制成功大面積熱反射鍍膜玻璃,并已通過鑒定投入大批量生產。該產品是80年代國外剛發展起來的一種新型玻璃材料。使用這種玻璃時室外

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建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃

建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃

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建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 4.8

選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動性。所謂真空鍍膜就是要求結構均勻并缺陷少,且容易流動的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40%以下,共形成的

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 4.7

由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 4.5

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介精華文檔

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 4.3

由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術、ito導電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監控、薄膜與表面分析檢測技術。書中還系統地介紹了反應濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術。《真空鍍膜設備》詳細介紹了真空鍍膜設備的設計方法與鍍膜機各機構元件的設計計算、設計參數的選擇,其中還重點系統地介紹了磁控濺射靶的設計計算和膜厚均勻性設計。

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幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識 幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識 幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識

幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識

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幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識 4.7

本文根據磁控濺射真空鍍膜生產線上的實踐,對在有色基片和白色基片上鍍制復合膜系,制備高檔次的幕墻玻璃,介紹一些淺顯的看法

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淺談真空鍍膜玻璃的生產、產污及其應用 淺談真空鍍膜玻璃的生產、產污及其應用 淺談真空鍍膜玻璃的生產、產污及其應用

淺談真空鍍膜玻璃的生產、產污及其應用

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淺談真空鍍膜玻璃的生產、產污及其應用 4.5

真空鍍膜玻璃作為環保節能新型材料有保溫、節能、降噪、防輻射等作用,隨著建筑、汽車、裝飾裝修、家具、信息產業技術等行業的發展和人們對生活空間環境要求的提高,安全玻璃、節能真空玻璃等功能性加工產品得到廣泛應用。生產真空鍍膜玻璃對推動整個國民經濟的發展起著積極作用。

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介最新文檔

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高耐溫真空鍍膜底漆的研制 高耐溫真空鍍膜底漆的研制 高耐溫真空鍍膜底漆的研制

高耐溫真空鍍膜底漆的研制

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高耐溫真空鍍膜底漆的研制 4.5

選用含有大量不飽和雙鍵、耐溫性優異、流平性好的聚1,2-丁二烯為主要成膜物質,通過引入長碳鏈叔碳結構提高涂膜的流平性能和豐滿度;引入氨酯鍵一方面調整相對分子質量,提高涂膜的分子間力,從而提高涂膜在烘烤固化過程中的抗流掛性能;另一方面提高涂膜與底材的附著力。

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塑料真空鍍膜底漆 塑料真空鍍膜底漆 塑料真空鍍膜底漆

塑料真空鍍膜底漆

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塑料真空鍍膜底漆 4.6

敘述了塑料真空鍍膜用底漆的主要作用、基本性能以及熱固化型和紫外光固化型真空鍍膜底漆的發展概況。

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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究

K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究

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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 4.3

采用離子束濺射法,分別在經過不同前期清洗方法處理過的k9及石英玻璃光學基片上,選擇不同的鍍膜參量,鍍制了多種厚度的au膜。對鍍制的au膜在真空紫外波段較寬波長范圍內的反射率進行了連續測量。測試結果表明:輔助離子源的使用方式、au膜厚度對反射鏡的反射率有重大影響。基片材料、鍍前基片表面清洗工藝等對反射率也有一定影響。采用鍍前離子轟擊,可顯著提高au膜反射率及膜與基底的粘合力;獲得最高反射率時的最佳膜厚與基片材料、鍍膜工藝密切相關。對經過離子清洗的石英基片,膜厚在30nm左右反射率最高;比較而言,石英基片可獲得更高的反射率;輔助離子源的使用還顯著影響獲得最高反射率時對應的最佳膜厚值,且對k9基片的影響更顯著。

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深南玻將生產世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產世界一流的PDP用玻璃基片

深南玻將生產世界一流的PDP用玻璃基片

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深南玻將生產世界一流的PDP用玻璃基片 4.4

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(整理)鍍膜玻璃簡介.

(整理)鍍膜玻璃簡介.

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(整理)鍍膜玻璃簡介. 4.7

精品文檔 精品文檔 鍍膜玻璃 鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改 變玻璃的光學性能,滿足某種特定要求。 鍍膜玻璃按產品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃 (low-e)、導電膜玻璃等。熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、 鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產品呈豐富的色彩,對于可見光有 適當的透射率,對紅外線有較高的反射率,對紫外線有較高吸收率,因此,也稱 為陽光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層 銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產品對可見光有較高的透射率,對 紅外線有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車、船舶等交 通工具,由于膜層強度較差,一般都制成中空玻璃使用;導電膜玻璃是在玻璃表 面涂敷氧化銦錫等導電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行

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《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行 4.7

由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術、ito導電玻璃

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全國最大的真空鍍膜玻璃項目落戶靖邊 全國最大的真空鍍膜玻璃項目落戶靖邊 全國最大的真空鍍膜玻璃項目落戶靖邊

全國最大的真空鍍膜玻璃項目落戶靖邊

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全國最大的真空鍍膜玻璃項目落戶靖邊 4.7

近日,全國最大的真空鍍膜玻璃建設項目落戶靖邊縣中小企業創業園。該項目占地約67萬m^2,計劃分兩期實施,總投資20.3億元。建成后,每年可生產2000萬m。的真空鍍膜玻璃,產值可達92億元,實現稅收9.3億元,是世界首條可以高效連續生產的產業化真空玻璃生產線。該項目充分利用靖邊天然氣資源充足的優勢,結合美國vecast公司世界領先的專有技術,高效率地生產納米陶瓷真空鍍膜玻璃。該產品是環保節能的新型材料,產業鏈長、可衍生多種高效節能環保材料,可廣泛應用在建筑、汽車、火車、輪船、冰箱電器及航空、航天等領域。該項目落戶在靖邊落地建設對調整地方產業結構,轉變經濟增長方式有著重要意義。

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5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究

5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究

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5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究 4.6

玻璃基片是制作光盤的重要元件。本文介紹了玻璃光盤基片的離子交換增強原理和方法,給出了鈉鈣硅玻璃離子交換增強處理結果和直徑130mm增強玻璃光盤基片的技術性能。

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 4.4

采用直流反應磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關系。用紫外-可見光分光光度計測試了不同沉積時間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結構;用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對tin薄膜的耐腐蝕性進行了分析。結果表明:當沉積時間為2min,n2流量為15ml/min時,在可見光區有較高的透光率,在近紅外區的透光率很低;當n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時,tin薄膜的結晶最致密;當濺射功率為4kw時,tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。

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大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備

大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備

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大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備 4.7

以7.4na2o-29.4b2o3-63.2sio2-1tio2(wt%)為玻璃組成,通過熱處理、酸溶液浸析的方法制備了平均孔徑為91.4nm、比表面積為13.786m2/g、孔容為0.3150cm3/g的無裂紋多孔玻璃基片(20×20×1.5mm),采用壓汞儀等測試分析了酸浸析濃度、酸浸析時間及酸浸析緩沖劑對多孔玻璃孔結構和基片碎裂的影響,并利用場發射掃描電鏡觀察多孔玻璃的顯微結構,發現以0.5mhcl/24h及飽和na2b4o7為酸浸析緩沖劑,可有效防止多孔玻璃碎裂,提高成品率,可為大孔徑的片狀多孔玻璃的發展和應用起到推動作用。

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付胡強

職位:建筑智能化設計工程師

擅長專業:土建 安裝 裝飾 市政 園林

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