固結磨料拋光墊拋光硅片的探索研究
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4.6
采用失重法與鉛筆硬度計分析了拋光墊的組分對其溶脹率及干濕態硬度的影響,比較了固結磨料方法與游離磨料方法拋光后硅片的表面粗糙度。結果表明:拋光墊基體的溶脹率隨基體中聚乙二醇雙丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羥基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基體的干態硬度隨PEGDA含量的增加先有所增大,而后減小,隨EO15-TMAPTA含量的增加而增大;濕態下鉛筆硬度隨PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而減小;光引發劑量的增加,有利于增大基體的干濕態硬度;固結磨料拋光硅片的去除速率是游離磨料加工的2~3倍,而前者拋光硅片后的表面粗糙度Ra為12.2nm,大于后者的4.32nm。
金剛石丸片與固結磨料拋光墊研磨硅片的比較研究
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采用金剛石丸片和固結磨料拋光墊兩種方式研磨加工硅片,以硅片的材料去除率(mrr)和表面粗糙度(sa)為指標對金剛石丸片和固結磨料拋光墊的研磨性能進行了評價。結果表明:固結磨料拋光墊研磨硅片的材料去除率高于金剛石丸片;研磨后硅片的表面粗糙度也優于金剛石丸片,且表面粗糙度(sa)在中部和邊緣相差不大。最后分析了研磨硅片的產物-磨屑的形狀特征,得出固結磨料拋光墊研磨硅片時的塑性去除量遠高于金剛石丸片。
葉序結構拋光墊表面的拋光液流場分析
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為了解決在化學機械拋光過程中拋光接觸區域內拋光液的分布均勻性問題,基于生物學的葉序理論,設計葵花籽粒結構的仿生拋光墊,建立化學機械拋光拋光液流場的運動方程和邊界條件,利用流體力學軟件(fluent)對拋光液的流動狀態進行仿真,并獲得葉序參數對拋光液流動狀態的影響規律。結果表明:拋光液在基于葵花籽粒的仿生拋光墊的流動是均勻的,拋光液沿著逆時針和順時針葉列斜線溝槽流動,有利于流體向四周發散。
基于仿生結構錫拋光墊的拋光接觸壓力分析
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4.3
為了讓化學機械拋光中晶片接觸表面受力更均勻,基于winkler地基理論及葉序理論設計了一種錫仿生結構拋光墊,并且建立了拋光的接觸力學模型和有限元分析模型。通過對拋光晶片表面接觸壓力的計算,獲得了晶片表面接觸壓力分布,以及各物理參數對壓力分布的影響規律。研究結果表明,使用錫仿生結構拋光墊能減小材料橫向牽連效應,改善接觸壓力分布,而且存在使壓力分布更為均勻的葉序參數。
超薄硅雙面拋光片拋光工藝技術
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4.6
mems器件、保護電路、空間太陽電池等的制作需要使用硅雙面拋光片,并且要求拋光片的厚度很薄,傳統的硅拋光片加工工藝已經不能滿足這一要求。介紹了一種用于超薄硅單晶雙面拋光片加工的拋光工藝方法。通過對硅片拋光機理[1]、拋光方式、拋光工藝的研究和對拋光工藝試驗結果的分析,解決了超薄硅單晶雙面拋光片在加工過程中碎片率高、拋光片背面表面質量不易控制的技術難題,研制出了高質量的超薄硅單晶雙面拋光片。
化學機械拋光中拋光墊表面溝槽的研究
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4.7
拋光墊表面溝槽是決定拋光墊性能的重要因素之一。介紹了拋光墊表面溝槽的形狀、尺寸和傾斜角度等因素對拋光過程的影響規律,認為:負螺旋對數型溝槽拋光墊的性能最佳,溝槽的深度和寬度會影響加工區域拋光液的平均駐留時間、混和效率及成分,溝槽的傾斜角度也會影響拋光效率,-20°傾斜角拋光墊的拋光效率最高。
化學機械拋光墊溝槽形狀的研究及展望
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4.7
在化學機械拋光過程中,溝槽形狀是拋光墊性能的重要影響因素之一,它會直接影響拋光效果。本文介紹了化學機械拋光墊上溝槽的基本形狀及其對拋光效果的影響,以及不同復合形狀的拋光墊溝槽及其對拋光效果的影響,并就研究中現存的主要問題提出展望。
拋光磚拋光廢料的回收利用途徑分析
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4.7
陶瓷拋光磚拋光廢料產出量很大,嚴重污染周邊環境,是困擾拋光磚生產的世界性難題。本文通過對此方面的研究結果,著重論述了陶瓷拋光磚拋光廢料回收利用的可行性方法。
陶瓷拋光磚拋光廢料的回收與利用
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4.6
陶瓷拋光磚拋光廢料產出量很大,嚴重污染周邊環境,是困擾拋光磚生產的世界性難題。根據多年的研究結果,著重論述陶瓷拋光磚拋光廢料回收利用的可行性方法,并對該技術要點及技術指標進行說明。
全自動銅片拋光機
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4.7
自動銅片拋光機說明書 1.技術概要: 自動銅片拋光機是為‘液化石油汽銅片腐蝕試驗’所用的的銅片試樣制備而設 計的。它的主要設計目的是以自動拋光來代替傳統繁復的手工制樣,并且可以多 片多面同時拋光為大批量的試樣制備提供良好的效率保證。 該設備的主要技術特點如下: 1.1占用空間尺寸為645x240x378,全重24kg。結構緊湊可適應長時間連 續作業需求。 1.2一次可裝取最多三片銅片以提高效率。 1.3磨頭為全氣懸浮結構,依靠氣體壓力形成氣體彈簧以保證對試樣的自如 適應。 1.4拋光墊為柔性材料,對試樣的表面平整度有較好的適應能力。 1.5磨料被設計為可自行剝離,以防銅屑阻塞砂輪后至后者失效。 1.6機械動力全部來自壓縮空氣,清潔環保,工作過程中,無揚塵及嚴重噪 音。 2.動力及設施配備: 2.1壓縮空氣(cda)或氮氣(n2),壓力調整范圍在0.4mpa
改性超細氧化鋁對拋光磨料耐磨性的影響
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4.5
目的研究超細氧化鋁粉體表面改性,評定改性效果對拋光磨料耐磨性能的影響,分析拋光磨料摩擦磨損機理.方法采用聚丙烯酸對超細氧化鋁進行表面改性制備出有機包覆的復合粒子,利用激光粒度儀、x-射線衍射儀、紅外光譜分析儀和掃描電鏡對其表征,測試經有機包覆后的超細氧化鋁對拋光磨料耐磨性的影響.結果表面改性后的氧化鋁顆粒與結合劑粘合力好,分散均勻不易團聚,氧化鋁摻量為30%時,磨料的摩擦磨損系數為0.1649,耐磨性較好.結論超細氧化鋁顆粒經有機包覆后表面性質發生很大變化,但其物相結構沒有改變,氧化鋁顆粒與結合劑粘結力強避免了磨料在摩擦時的脫粒現象,減少劃痕增強其耐磨性.
納米磨料制備花崗石拋光磨具的研究
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4.7
以納米三氧化二鋁和納米二氧化錫等作為復合納米磨料,以酚醛樹脂為粘結劑在160℃和8mpa的條件下預壓,然后在硬化爐里硬化制備花崗石拋光磨具。磨削對比試驗表明:納米磨料花崗石拋光磨具的磨削性能、耐磨性能、耐水性能均優于普通磨料花崗石拋光磨具,前者的拋光光潔度達98度
拋光磚
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4.6
拋光磚是通體磚坯體的表面經過打磨而成的一種光亮的磚,屬通體磚的一種。相對通體磚而 言,拋光磚表面要光潔得多。拋光磚堅硬耐磨,適合在除洗手間、廚房以外的多數室內空間 中使用。在運用滲花技術的基礎上,拋光磚可以做出各種仿石、仿木效果。由于審美觀的因 素,我國市場上的瓷磚品種一直是以大片的、大片的大規格華麗而高檔拋光磚為主,象以〃 石〃為名的拋光磚、超微粉磚、微晶玻璃、聚晶微粉等等,一大批高檔拋光磚產品讓人眼花 繚亂。這些高檔產品的誕生和發展,因為有市場所以才有大規模的生產,這符合我國消費者 的追求和審美眼光。它不僅有豪華大氣、富麗堂皇,大空間的視覺效果,在某種程度上也是 身份與形象的代表。 拋光磚有一個致命的缺點: 拋光磚因其堅硬、耐磨、適合室內外大面積鋪貼而受到消費者的喜愛。但拋光磚在制作時 留下的凹凸氣孔,這些氣孔會藏污納垢,造成了表面很容易滲入污染物,
拋光磚
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4.6
-1- 拋光磚 發展 我國拋光磚隨著生產技術水平的不斷提高,品質走在世界前列,質量處于國際先進水平。國標高 于歐標,表面平整度、邊直度、直角度和耐磨性等參數都比歐標高2倍以上。工藝上的要求比國外小 規格瓷磚更高,在無縫拼接上,對于瓷磚尺寸精確度要求也更高,品質也更優秀。目前拋光磚在出口 上占很大份額。但超大規格瓷磚受環境、強度、破損率的影響,不會有更大的發展。為了求變,陶瓷 企業在科技上大下力度,提高拋光磚性能,使拋光磚具有突破性的創新。但是說到瓷磚一般還是很難 與藝術扯到一塊,它只是鋪到地上的一塊塊磚,其實正是這一塊塊磚,通過點點滴滴的藝術滲透彰顯 家居的品位與風格。今春瓷磚的流行更與藝術息息相關。設計走向總體而言,源于自然、質感高貴以 及永恒的經典顏色和圖案最受歡迎。而這些充滿藝術氣息的瓷磚代表首推意大利與西班牙瓷磚。 拋光磚的優點 1、優點一:無放
拋光機6圓磨塊粗拋拋光頭的改進
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4.7
筆者對6圓磨塊粗拋拋光頭進行了改進,選用了合理的自轉速度,在不需降低功率的條件下,提高了易損軸承的承載能力,延長了每次維修后的正常使用時間、降低了維修費用、提高了生產效率。
不銹鋼拋光材料拋光輥輪特性
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4.3
不銹鋼拋光材料拋光輥輪特性 漢通研磨:不銹鋼拋光材料拋光輥輪應用于面積較大的不銹鋼板材、不同金屬板材的打磨、拋光,可 選擇不同磨料對表面處理。拋光材料拋光輥輪包括:尼龍拋光軸輥、拉絲刷輥、飛翼輪軸輥、尼龍輪拼輥、 卷緊輪等,用于電梯制造、不銹鋼板材卷板、廚具制造、銅鋁板材制品、人造大理石、高檔木地板、線路 板等拉絲拋光。常規及特殊規格可訂做,歡迎咨詢漢通客服。 拋光材料拋光輥應用范圍:電梯制造、不銹鋼板材卷板、廚具制造、銅鋁板材制品、人造大理石、高 檔木地板、線路板等拉絲拋光。 拋光材料拋光輥產品特性:在高速自動拋光機上使用打磨板材時產生高溫時飛翼輪軸輥不會熔粘上板 材,可以加水或液體使用、鋒利、耐用、自銳、防堵、光潔度高。 拋光材料輥輪加工范圍: 直徑:7.5cm--35.0cm(3寸--14寸) 厚度:20.0cm--150.0cm(8寸--60寸) 砂號:46#-
拋光磚文案
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4.6
云影斯都 云影斯都采用國際領先的數控定位,立體布料技術精心研制而成。清雅簡潔的外觀,行 云流水的紋理,立體通透的質感,營造出層次豐富,清新逼真的視覺效果。源于自然,超越 真石。 以自然流暢的天然石材紋理,色彩豐富的裝飾效果和獨特的品質,廣泛使用于各種建設 風格。 清雅簡潔倍顯品味 清新淡雅的外觀,自然流暢的天然石材紋理,色彩豐富的裝飾效果,讓整個空間倍顯 主人的獨特品味。大面積鋪設在客廳、陽臺等地,有著拓展空間的效果。 流暢紋理通透質感 利用立體滑動平鋪的布料技術,將幻彩異型聚核粉體在磚表面自然精確分布,結合反打 微粉很線條布藝工藝,呈現立體通透質感;不用顏色之間保持清晰界限,營造出一種行云流 水般靈動效果。 耐磨抗污適用廣泛 硬度高、耐磨損,易打理;不滲漏、不吸污、無輻射、易清潔、廣泛適用多種裝飾風格。 時尚風格 明亮的燈光下,暖色調的墻面,搭配蒙娜
4研磨和拋光
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4.3
6.4研磨與拋光 模具型腔或型芯經機加工和電加工后,其表面一般很難達到所需要的表面粗糙度,因而需要進行拋光, 有時為了達到需要的精度或拋光面的平整又要進行研磨。即先進行研磨再進行拋光。研磨的尺寸精度可達 0.025um,表面粗糙度達0.01um。而拋光主要是進行光飾加工,表面粗糙度最高可達0.008um。研磨是在 低速、低壓下利用一定顆粒度的磨料進行的磨削加工。而拋光則在相對高速下進行的,其使用的磨料相對 顆粒度要小,不僅有微細磨料的切削加工,而且有擠擦產生的塑性加工。目前除了用機械式的拋光而外, 其他還有擠壓珩磨、電解拋光與電解修磨等方法。 6.4.1研磨與拋光工藝 模具型腔經機加工或電加工后一般表面粗糙度為3.2-4.0um,而為了得到美觀的塑料制品,要求型腔表 面的粗糙度為0.16-0.016um甚至更高,這就需要研磨與拋光。但為了確保研拋后的尺寸精度,要求留有一
微磨料水射流拋光硅片的實驗研究
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4.6
采用微磨料水射流對硅片進行拋光實驗研究。根據后混合磨料水射流原理,通過設計實驗,在選取合適磨粒直徑和其他參數的條件下,采用微磨料水射流對硬脆性材料的表面進行拋光是完全可行的。并以正交試驗設計為依據,分析在拋光硅片過程中,微磨料水射流主要加工工藝參數對表面粗糙度的影響。通過分析該實驗結果的相關指標,可知拋光效果較好,因此用微磨料水射流對硅片的拋光是可行的。
拋光廢渣回收利用于拋光磚生產的研究
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4.7
現有的拋光磚生產工藝由于在拋光階段會產生大量的廢渣,很難直接回收利用,從而對周邊環境造成極大的破壞。其中拋光廢渣中含有氯氧鎂水泥等雜質是造成拋光廢渣直接回收利用時產生坯體膨脹、針孔、變形等缺陷的最重要原因。針對現有的拋光磚在拋光階段產生大量的廢渣難于直接回收再用的難題,本文提出了分類回收、自然沉降、分開使用的最優處理思路,創新性地豐富了拋光廢渣回收領域的技術內涵。
美國3M公司推出耐用型拋光地板墊
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4.5
美國3m公司推出了一種極其耐用的拋光地板墊skybluehi—performanceburnishpad3050。它包含非織造布加樹脂與其他材料,可降低更軟面層燒傷和渦旋痕跡的同時,提供明亮的、高光澤的地板,所有的高速電動、電池和丙烷地板拋光機使用。這款地板墊在受控測試環境中測試是普通類型耐用性能的50%以上,這意味著在拋光機維修上花費時間更少,更換購買的周期更長。
大拋光模磁流變超光滑平面拋光技術研究
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4.7
近年來,隨著信息電子技術、光電技術及半導體照明技術的迅速發展,超光滑平面元器件需求越來越大,這些表面要求達到亞納米級表面粗糙度、微米級面形精度且無表面和亞表面損傷,傳統超精密拋光技術由于耗時、成本高、易產生表面損傷,難以滿足大批量生產的要求。磁流變加工被認為是一種極具前景的獲取低損傷鏡面的技術手段,然而,傳統磁流變加工方法拋光點面積小,加工效率低。為解決上述問題,本文在比較分析國內外超光滑表面加工技術的基礎上,提出了一種大拋光模磁流變超光滑平面拋光技
拋光磚 (2)
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4.6
拋光磚 拋光磚 拋光磚是通體磚坯體的表面經過打磨而成的一種光亮的磚,屬通體磚的一種。相 對通體磚而言,拋光磚表面要光潔得多。拋光磚堅硬耐磨,適合在除洗手間、廚 房以外的多數室內空間中使用比如用于陽臺,外墻裝飾等。在運用滲花技術的基 礎上,拋光磚可以做出各種仿石、仿木效果。 目錄 發展 拋光磚的致命缺點 鑒別挑選之五字真訣 1.1、看 2.2、敲 3.3、滴 4.4、量 5.5、劃 淺析拋光磚吸污原理及防污 1.1.前言 2.2.拋光磚吸污分析 3.3.拋光磚防污劑 4.4.拋光磚防污技術 5.5.提高拋光磚防污能力的方法 瓷磚市場前景廣闊 拋光磚的品種分類 1.第一類:滲花型拋光磚 2.第二類:微粉磚 3.第三類:多管布料拋光磚 4.第四類:微晶石 拋光磚如何選購 拋光磚的翻新和護理方法 發展 我國拋光磚隨著生產技術水平的不斷提高,品質走在世
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職位:制冷與空調技術暖通工程師
擅長專業:土建 安裝 裝飾 市政 園林