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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書：《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術》主要內(nèi)容：薄膜基礎理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積（CVD）、離子注入與離子輔助沉積技術、
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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書：《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術》主要內(nèi)容：薄膜基礎理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積（CVD）、離子注入與離子輔助沉積技術、ITO導電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術。書中還系統(tǒng)地介紹了反應濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術。
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