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為了研究希夫堿光亮劑DL01,DL02,DL03及添加劑Co(BF4)2在電鍍時(shí)的電化學(xué)行為,采用線性電位掃描測(cè)定了氟硼酸鹽光亮鍍錫溶液中加入各種新型添加劑后的極化曲線。結(jié)果表明,在含DL01或DL03的氟硼酸鹽鍍液中,Sn2+的還原峰電位分別為-0.230 V和-0.320 V;在含DL01,DL03及少量Co(BF4)2的氟硼酸鍍錫溶液中,Sn-Co共沉積峰電位為-0.210 V;Co(BF4)2促進(jìn)了Sn2+的沉積,Sn-Co的共析是協(xié)同共沉積。
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用DL0 1、DL0 3作光亮劑 ,在氟硼酸鹽鍍液中 ,在不同電流密度和不同攪拌速度下 ,在Φ0 .5mm的銅線上 ,電鍍錫、錫 銅合金鍍層。結(jié)果表明 ,所得鍍層光亮、柔軟。
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