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更新時間:2025.06.07
藍寶石基片的超光滑表面拋光技術

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文中介紹了藍寶石基片的主要拋光方法,包括浮法拋光、機械化學拋光、化學機械拋光和水合拋光等,對它們的工作原理、特點作了分析和總結。

固結磨料拋光墊拋光硅片的探索研究

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采用失重法與鉛筆硬度計分析了拋光墊的組分對其溶脹率及干濕態硬度的影響,比較了固結磨料方法與游離磨料方法拋光后硅片的表面粗糙度。結果表明:拋光墊基體的溶脹率隨基體中聚乙二醇雙丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羥基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基體的干態硬度隨PEGDA含量的增加先有所增大,而后減小,隨EO15-TMAPTA含量的增加而增大;濕態下鉛筆硬度隨PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而減小;光引發劑量的增加,有利于增大基體的干濕態硬度;固結磨料拋光硅片的去除速率是游離磨料加工的2~3倍,而前者拋光硅片后的表面粗糙度Ra為12.2nm,大于后者的4.32nm。

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