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更新時間：2025.06.07
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提出了一種利用總積分散射(TIS)測量K9玻璃基片表面散射和體散射的實驗方法。首先采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積厚度為幾十nm的金屬Ag薄膜,然后將基片的表面和體區(qū)分開考慮,通過TIS測得了基片上下表面的均方根粗糙度,進而求得基片的總散射和表面散射,最后計算得到了體散射。分別利用TIS和原子力顯微鏡(AFM)測量了3個樣品上表面所鍍Ag膜的均方根粗糙度,兩種方法所得的均方根粗糙度的數(shù)值相差不明顯,差值分別為0.08,0.11和0.09 nm,表明TIS和AFM的測量結(jié)果相一致。利用該方法測得3塊K9玻璃基片的總散射分別為6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之間,由此計算得到的體散射分別為3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。
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飽和土中圓形襯砌結(jié)構(gòu)對彈性波的散射——運用復(fù)變函數(shù)法，在Biot波動理論的基礎(chǔ)上，對飽和土中的圓形襯砌 結(jié)構(gòu)進行分析。首先，通過引入3個 勢函數(shù)將飽和土的Biot波動方程解耦成3個Helmholtz方程，將襯砌結(jié)構(gòu)看 作是彈性均質(zhì)的各向同性材料介質(zhì)， 通過引入2個勢...
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專題概述
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