在化學機械拋光過程中，拋光墊表面溝槽形狀是決定拋光墊性能的重要影響因素之一，它會直接影響拋光效果。在分析幾種常規拋光墊表面溝槽結構形狀的特性的基礎上，介紹了新型拋光墊溝槽的研究進展，分析了幾種新型拋光墊表面溝槽對拋光效果的影響，為化學機械拋光用的拋光墊表面溝槽特性的深入研究與分析提供參考。

拋光墊表面溝槽是決定拋光墊性能的重要因素之一。介紹了拋光墊表面溝槽的形狀、尺寸和傾斜角度等因素對拋光過程的影響規律,認為:負螺旋對數型溝槽拋光墊的性能最佳,溝槽的深度和寬度會影響加工區域拋光液的平均駐留時間、混和效率及成分,溝槽的傾斜角度也會影響拋光效率,-20°傾斜角拋光墊的拋光效率最高。

基于單分子層材料的去除機理,應用微觀接觸力學和概率統計方法建立了化學機械拋光(cmp)及材料去除的數學物理模型.模型揭示了材料的去除率和磨粒的大小、濃度呈非線性關系,而且模型預測結果與已有的試驗數據相吻合,為進一步研究磨粒對cmp材料去除的影響提供了新的研究視角.

在低壓無磨料條件下,利用堿性fa/o型螯合劑具有極強螯合能力的特性,對銅互連線進行化學機械平坦化,獲得了高拋光速率和表面一致性。提出了銅表面低壓無磨料拋光技術的平坦化原理,在分析了拋光液化學組分與銅化學反應機理的基礎上,對拋光液中的主要成分fa/o型螯合劑、氧化劑的配比和拋光工藝參數壓力、拋光機轉速進行了研究。結果表明:在壓力為6.34kpa和拋光機轉速為60r/min時,拋光液中添加5%螯合劑與1%氧化劑(體積分數,下同),拋光速率為1825nm/min,表面非均勻性為0.15。

為了解決高硬度高耐磨性沖壓模材料日本富士d60鎢鋼的拋光難題,研究了d60鎢鋼電化學機械復合拋光工藝。在研制了電化學機械復合拋光試驗機的基礎上,通過對加工間隙、電解液溫度、電解液濃度、加工時間等試驗參數的正交試驗及單因數試驗的研究,找到了比較優化的拋光工藝參數。試驗表明:在20min內,能將d60鎢鋼表面粗糙度從ra1·51μm降到ra0·2μm左右。

化學氣相沉積(cvd)制備的金剛石膜表面粗糙且厚薄不均勻,在許多情況下不能直接使用,必須對其進行拋光。本文研究了不同型號的金剛石微粉對cvd金剛石厚膜研磨的影響,通過對研磨結果的比較分析,優化出一種高質量高效率的拋光方法,即先采用w40和w28金剛石微粉,分別研磨2h,然后用w0.5金剛石微粉研磨4h。經掃描電子顯微鏡(sem)和原子力顯微鏡(afm)測試分析表明:金剛石膜的平均去除率為12.2μm/h,粗糙度ra由4.60μm降至3.06nm,說明該拋光方法能實現金剛石膜高質量、高效率的拋光。

主要介紹自動化機械拋光工藝的設計理念以及常用的拋光方式并論述拋光工藝的技術工序.通過詳細的分析了解工藝進展狀況,為更好地發展自動化機械拋光工藝提供文字參考.

不銹鋼板在生產和裝飾材料中得到越來越多的應用,其表面粗糙度對產品質量有著重要影響。研究了不銹鋼板的高效電化學機械拋光,介紹了一臺由立式銑床改裝的電化學機械復合拋光裝置,討論加工電壓、磨輪壓力與加工效率的關系以及加工電壓對表面粗糙度的影響。研究結果表明,電化學機械復合加工可以得到更高的加工效率和更好的加工質量。

采用失重法與鉛筆硬度計分析了拋光墊的組分對其溶脹率及干濕態硬度的影響,比較了固結磨料方法與游離磨料方法拋光后硅片的表面粗糙度。結果表明:拋光墊基體的溶脹率隨基體中聚乙二醇雙丙烯酸酯(pegda)或乙氧基化三羥基丙烷三丙酸酯(eo15-tmapta)含量的增加而提高;基體的干態硬度隨pegda含量的增加先有所增大,而后減小,隨eo15-tmapta含量的增加而增大;濕態下鉛筆硬度隨pegda或eo15-tmapta含量的增加而減小;光引發劑量的增加,有利于增大基體的干濕態硬度;固結磨料拋光硅片的去除速率是游離磨料加工的2～3倍,而前者拋光硅片后的表面粗糙度ra為12.2nm,大于后者的4.32nm。

為解決不銹鋼電熱水壺在手工拋光方式中存在的污染嚴重、拋光效率低和質量不穩定等問題,成功自主研發了一套電水壺曲面自動化機械拋光系統,該系統采用了多磨具多工位的拋光方法,可夾持三個水壺同時進行拋光,提高了拋光效率。為確保水壺表面拋光質量,規劃了螺旋式刀具路徑,同時提出了基于示教法的拋光刀位數據生成方法,并利用nurbs曲線擬合的方法對刀具軌跡進行優化。實驗結果證明,與手工拋光方式相比較,該方法大大提高了拋光質量和效率。

較粗糙的表面是影響金剛石厚膜廣泛使用的因素之一。本文對cvd金剛石厚膜進行了機械拋光的正交實驗研究。實驗結果表明,影響拋光效率的因素依次為拋光盤的磨粒、轉速、正壓力和拋光面積。采用較大粒度的磨盤,適當增加轉速和壓力有利于提高拋光的效率。此外用xrd方法對機械拋光前后的膜的殘余應力進行了測定和對比分析,結果表明,經過機械拋光,殘余拉應力明顯減小。

采用微磨料水射流對硅片進行拋光實驗研究。根據后混合磨料水射流原理,通過設計實驗,在選取合適磨粒直徑和其他參數的條件下,采用微磨料水射流對硬脆性材料的表面進行拋光是完全可行的。并以正交試驗設計為依據,分析在拋光硅片過程中,微磨料水射流主要加工工藝參數對表面粗糙度的影響。通過分析該實驗結果的相關指標,可知拋光效果較好,因此用微磨料水射流對硅片的拋光是可行的。

金相組織檢驗工序，包括試樣制備，試驗侵蝕，顯微組織 檢驗，顯微照相等五步。拋光是金相試樣磨制工序中的最后一 道工序，其目的是消除試樣細磨時在磨面上留下的細微磨痕， 便之成為平整光亮無痕的鏡面。拋光由機械拋光、電解拋光、 化學拋光等方法。現就電解拋光和機械拋光進行討論，分析他 們的區別。 1概念上區別 1.1機械拋光 機械拋光是是一種機械物理過程。粗拋時用帆布或粗呢， 細拋時用絨布、細呢或絲綢等。拋光過程中要不斷向拋光布上 倒入適量的水與cr2o3（或al2o3、mgo等）懸浮液。試樣的磨面 應平正地壓在旋轉的拋光盤上，壓力不宜過大，并使試樣從拋 光盤邊緣到中心不斷地作徑向往復移動。待試樣表面磨痕全 部被拋掉而呈現光亮鏡面時，拋光即可停止，并將試樣用水或 酒精洗干凈后轉入浸蝕。 1.2電解拋光 電解拋光是電化學溶解過程，以被拋工件為陽極，不溶性

以不銹鋼為基體材料,ni-w-p為基質合金,添加耐磨微粒碳化硅(sic)和六方氮化硼(-αbn)固體潤滑微粒,在拋光輪工作面鍍制ni-w-p/sic+bn多元復合鍍層。該工藝得到的ni-w-p/sic+bn多元復合鍍層表面光亮、質感均勻、鍍層結合力良好、耐蝕性優良。經過相同次數磨損試驗,ni-w-p/sic+bn熱處理鍍層的耐磨性能是0cr18ni9ti不銹鋼的5.22倍。

目的研究超細氧化鋁粉體表面改性,評定改性效果對拋光磨料耐磨性能的影響,分析拋光磨料摩擦磨損機理.方法采用聚丙烯酸對超細氧化鋁進行表面改性制備出有機包覆的復合粒子,利用激光粒度儀、x-射線衍射儀、紅外光譜分析儀和掃描電鏡對其表征,測試經有機包覆后的超細氧化鋁對拋光磨料耐磨性的影響.結果表面改性后的氧化鋁顆粒與結合劑粘合力好,分散均勻不易團聚,氧化鋁摻量為30%時,磨料的摩擦磨損系數為0.1649,耐磨性較好.結論超細氧化鋁顆粒經有機包覆后表面性質發生很大變化,但其物相結構沒有改變,氧化鋁顆粒與結合劑粘結力強避免了磨料在摩擦時的脫粒現象,減少劃痕增強其耐磨性.

以納米三氧化二鋁和納米二氧化錫等作為復合納米磨料,以酚醛樹脂為粘結劑在160℃和8mpa的條件下預壓,然后在硬化爐里硬化制備花崗石拋光磨具。磨削對比試驗表明:納米磨料花崗石拋光磨具的磨削性能、耐磨性能、耐水性能均優于普通磨料花崗石拋光磨具,前者的拋光光潔度達98度

介紹了一種引入超聲波研磨光纖連接器的新型研磨方式。對這種實驗裝置進行了簡單的介紹,并將這種研磨的結果和普通研磨的結果進行了對比和分析,結果表明這種研磨方式的研磨效率比普通研磨提高了4~8倍,平均表面粗糙度<3nm,平均回波損耗<-60db,平均插入損耗<0.1db。

孔加工成為復合材料制品合格率的重要因素之一,機械加工是目前復合材料孔加工的主要手段。本文將重點分析復合材料制品孔成型設計過程中需要考慮的因素:結構、結構質量和原材料以及加工工藝的選擇,并對影響復合材料制孔質量的因素進行探討,主要有工裝、刀具、人為因素及維護。

探討纖維增強復合材料的機械加工技術。

以機械聯接接頭應力分布的解析解為基礎，以單向板縱向拉拉ｓｎ曲線為依據，按照孔邊一定范圍內逐層逐單元損傷直至破壞的物理本質，從宏觀唯象觀點出發，提出了一種壽命估算方法。同時，文中還給出了孔的永久變形與循環次數之間的擬合關系式。

闡述了不銹鋼表面復合拋光原理,研究分析確立了先進行前期機械拋光處理不銹鋼表面至ra0.2μm然后進行復合拋光,最后進行電化學光亮化處理的大面積拋光工藝路線,重點研究了前期機械拋光處理和復合拋光工藝參數,介紹了復合拋光技術特性指標和工業應用效果。

通過化學氣相沉積方法在氧化鋁顆粒表面分別獲得了ni、tin涂層.用不同涂層的氧化鋁顆粒制備了氧化鋁顆粒/耐熱鋼基復合材料,考察了復合材料在900℃下的磨料磨損抗力,結果表明:包ni氧化鋁復合材料的耐磨性是耐熱鋼的327倍,包tin氧化鋁復合材料的耐磨性是耐熱鋼的266倍.進一步的分析表明,包ni氧化鋁與耐熱鋼的界面結合強度可由無涂層時的067mpa提高到405mpa,而包tin氧化鋁與耐熱鋼的界面結合強度只提高到180mpa.較低的界面結合強度會導致氧化鋁顆粒整體從基體中脫落,而包tin氧化鋁/耐熱鋼基復合材料的界面抗高溫氧化性較差,也導致氧化鋁顆粒易從基體中脫落,這兩方面的作用是導致包tin氧化鋁復合材料高溫磨料磨損抗力低的主要原因.