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更新時(shí)間:2025.07.05
低壓鍋清洗操作規(guī)程

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低壓鍋爐清洗操作規(guī)程 第一篇 總則 1.1 鍋爐的化學(xué)清洗,是保持受熱面內(nèi)表面清潔,防止受熱面結(jié)垢、腐蝕引起 事故,以及提高水汽品質(zhì)和鍋爐熱效率的必要措施之一。 1.2 鍋爐的化學(xué)清洗,要求能除去新建鍋爐在軋制、加工過(guò)程中形成的高溫氧 化軋皮以及在存放、 運(yùn)輸、安裝過(guò)程中所產(chǎn)生的腐蝕產(chǎn)物、 焊渣和泥沙污染物等; 除去運(yùn)鍋爐在金屬受熱面上積聚的氧化鐵垢、 鈣鎂水垢、銅垢、硅酸鹽垢和油垢 等。 1.3 化學(xué)清洗的步驟一般是:系統(tǒng)水沖洗、堿洗、堿洗后的水沖洗、酸洗、酸 洗后的水沖洗或漂洗、鈍化。 1.4 鍋爐化學(xué)清洗前,必須制定清洗方案,并經(jīng)技術(shù)負(fù)責(zé)人批準(zhǔn),報(bào)鍋爐所在 地的地、市級(jí)勞動(dòng)部門鍋爐壓力容器安全監(jiān)察機(jī)構(gòu)備案后實(shí)施。 1.5 工作人員在化學(xué)清洗過(guò)程中應(yīng)嚴(yán)格遵守安全規(guī)程,確保人身安全。 第二篇 化學(xué)清洗條件和準(zhǔn)備工作 2.1 鍋爐符合下列情況之一時(shí),方可進(jìn)行清洗: 2.1.1 鍋爐受熱面被

CIP清洗操作規(guī)程3

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CIP 清洗操作規(guī)程在灌裝系統(tǒng)中推廣應(yīng)用 灌裝系統(tǒng)的清理在現(xiàn)代化生產(chǎn)中越來(lái)越重要, CIP 清洗系統(tǒng)使得現(xiàn)代化規(guī)模生產(chǎn)更加便利,替代了人工對(duì) 設(shè)備的維護(hù),使設(shè)備更加徹底的得到清洗。 1、目的 規(guī)范 CIP 清洗操作程序,進(jìn)行設(shè)備的維護(hù),保證生產(chǎn)連續(xù)正常進(jìn)行。 2、適用范圍 中洲伊源生物技術(shù)有限責(zé)任公司 CIP 清洗工段。 3.內(nèi)容 3.1 清洗順序: 40℃清水、 2% 堿、 40℃清水、 0.8% 酸、 90℃以上熱水、依次清洗。 3.2 按規(guī)定時(shí)間清洗并記錄。 3.3 加水量約 80% ,即蓋住加熱盤管即可。 3.4 酸堿濃度: 3.4.1 清洗前檢測(cè)濃度,不夠可添加適當(dāng)?shù)牧俊?3.4.2 根據(jù)酸堿污染程度,決定是否重新配制。 3.5 正確連接進(jìn)出分配器。 3.6 時(shí)常檢查輸水器,防止阻塞。 3.7 檢查管道、閥門無(wú)誤后,方可啟動(dòng)離心泵進(jìn)行清洗。 3.8 當(dāng)用酸堿清洗時(shí),清洗完畢后,打

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