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更新時間:2025.05.17
真空鍍鋁工藝

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書山有路勤為徑;學海無涯苦作舟 真空鍍鋁工藝 真空鍍鋁是在真空狀態下,將鋁金屬加熱熔融至蒸發,鋁原子凝結在 高分子材料表面,形成極薄的鋁層。真空鍍鋁要求基材表面光滑、平整、 厚度均勻;挺度和摩擦系數適當;表面張力大于 38Dyn/Cm2;熱性能好, 經得起蒸發源的熱輻射和冷凝熱的作用;基材含水量低于 0.1%。常用的鍍 鋁基材有聚酯( PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯 乙烯( PVC)等薄膜,工藝要求;真空度不得低于 103PA,以免出現褐色條 紋或鋁層厚度不均現象;控制好系統張力,開啟冷卻系統,避免薄膜受熱 出現拉伸變形;精確控制卷取速度( 280~320m/min)、送鋁速度 (0.4~0.7m/min·2mm鋁絲)及蒸發舟加熱電流,以獲得產品要求的鋁 層厚度( 100~300A°);可預先在薄膜上涂布一定干量的底膠,并充分干 燥,再經真空鍍鋁,可提高鋁層

《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》出版發行

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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書:《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業出版社出版發行。《真空鍍膜技術》主要內容:薄膜基礎理論、真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術、

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