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更新時(shí)間:2025.06.29
玻璃釉成膜工藝的改進(jìn)

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針對(duì)厚膜混合集成電路在高強(qiáng)度溫度應(yīng)力下出現(xiàn)成膜基板上元器件錫焊區(qū)附近導(dǎo)電帶斷裂現(xiàn)象,通過(guò)分析認(rèn)為是材料膨脹系數(shù)不同及錫焊熔融導(dǎo)電帶膜層所致,根據(jù)失效機(jī)理對(duì)玻璃釉成膜工藝進(jìn)行了改進(jìn),在后續(xù)的工藝流片中錫焊區(qū)附近導(dǎo)電帶未再次出現(xiàn)斷裂現(xiàn)象,保證了厚膜混合集成電路質(zhì)量和良品率。

ZnO電阻片側(cè)面玻璃釉的研究

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本研究采用三元系的玻璃料作為ZnO電阻片的側(cè)面絕緣材料,通過(guò)對(duì)材料的配方與工藝的研究,試制出與ZnO電阻片側(cè)面結(jié)合良好,光滑、耐污、耐潮的玻璃釉,提高了側(cè)面耐電壓性能,充分發(fā)揮了ZnO電阻片本體對(duì)大電流的耐受能力.使電阻片的大電流達(dá)到了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的要求.

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