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介紹了雙面光刻對準原理及技術新發展,表明了不變焦對準的技術優勢。針對玻璃基片設計了十字加方框的對準圖樣,經重新調焦,利用基片透明屬性透過基片標記觀測掩模標記實現對準,不再采用靜態存儲的掩模數字圖像作為精對準基準,規避了可能由物鏡側移帶來的對準誤差。最后提供了幾種常用的對準標記圖樣,并為了加工操作的便利引入了輔助搜索線。
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