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伴隨著國內市場競爭的日趨激烈,常規的MPW(多項目晶圓)布局也不能滿足客戶的要求,同時也不能最大限度地降低設計公司的研發成本,也不利于國內foundry廠市場的開拓。鑒于此,文章著重提出了利用光刻機擋板把光罩進行區域劃分,在不增加流片和滿足客戶要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客戶的流片費用。通過在15cm片上流片驗證,更加突出了此優化光罩布局的方法在研發成本和滿足客戶要求等方面的優越性,因而這種布局對我國集成電路的發展和新產品的研發工作,特別是對國內中小企業的成長提供了有力的支持,也為foundry廠贏得市場提供了重要的手段。
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摻Tm3+光纖激光器在工業、醫療、科技及軍事領域具有重要應用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調制量也很小,尚不能滿足應用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發展。以相位掩模法的基本原理為基礎,從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術要點,總結出與傳統紫外激光刻寫技術之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實驗系統,利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫Bragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結構。實驗結果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時間短的優點。
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