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提出了一種利用總積分散射(TIS)測量K9玻璃基片表面散射和體散射的實驗方法。首先采用磁控濺射技術在基片表面沉積厚度為幾十nm的金屬Ag薄膜,然后將基片的表面和體區分開考慮,通過TIS測得了基片上下表面的均方根粗糙度,進而求得基片的總散射和表面散射,最后計算得到了體散射。分別利用TIS和原子力顯微鏡(AFM)測量了3個樣品上表面所鍍Ag膜的均方根粗糙度,兩種方法所得的均方根粗糙度的數值相差不明顯,差值分別為0.08,0.11和0.09 nm,表明TIS和AFM的測量結果相一致。利用該方法測得3塊K9玻璃基片的總散射分別為6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之間,由此計算得到的體散射分別為3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。
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介紹了一種用多模光纖構造的動態光散射粒徑測量實驗系統,系統中沒有對接收光纖的孔徑角加任何限制措施。分別用單分散,多分散和不同濃度的標準聚苯乙烯乳膠球懸浮液檢測了該系統的適用性。結果表明,該系統可準確地測量濃度(體積分數)達5%的聚苯乙烯乳膠球溶液中懸浮顆粒的粒徑分布。
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