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近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
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選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動性。所謂真空鍍膜就是要求結(jié)構(gòu)均勻并缺陷少,且容易流動的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40％以下,共形成的
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